双重曝光技术，一种在摄影圈广受欢迎的技巧，如今已成功跨界至设计领域。它通过在同一张底片上进行多次曝光，创造出神秘而引人入胜的视觉效果。  

这项技术不仅为摄影师提供了无限创意空间，也为设计师们开辟了新的创作途径。  

尽管现代中高级自动相机已内置多次曝光功能，但设计师们如何运用Photoshop实现这一效果呢？一个常用的技巧是调整图层混合模式，通常选择亮色作为主题，搭配深色背景，通过混合模式的调整，即可轻松实现双重曝光效果。  

PS插件介绍：简化设计流程  

双重曝光PS汉化插件，一个包含三种图层模式的动作包，通过一系列预设的调整，如渐变、亮度对比度、黑白处理等，极大简化了设计流程。它不仅节省了设计师的时间，更提高了工作效率。  

成品展示：可编辑的图层设计  

生成的成品文件中，图层上下均可进行修改，为设计师提供了更多的编辑空间和创作自由。  

系统与版本支持  

支持系统：Windows/macOS  

支持版本：PhotoshopCC至PS24版

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